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CMP拋光液研發(fā)裝置

描述：CMP 拋光液研發(fā)裝置是專門用于開發(fā)和優(yōu)化 CMP 拋光液的關(guān)鍵設(shè)備。

  • 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間：2024-08-14
  • 訪問量：95
產(chǎn)品詳情/ PRODUCT DETAIL

標(biāo)題：CMP拋光液研發(fā)裝置

產(chǎn)品概述

CMP 拋光液研發(fā)裝置是專門用于開發(fā)和優(yōu)化 CMP 拋光液的關(guān)鍵設(shè)備。


主要組成部分：


  1. 小型反應(yīng)釜：用于進(jìn)行各種化學(xué)合成和調(diào)配實(shí)驗(yàn)。

  2. 精密計(jì)量系統(tǒng)：能夠精確控制各種原材料的添加量，確保配方的準(zhǔn)確性。

  3. 多模式攪拌系統(tǒng)：提供不同的攪拌速度和方式，以模擬不同的反應(yīng)條件。

  4. 溫度和壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)：可實(shí)現(xiàn)精確的溫度和壓力控制，滿足多樣化的實(shí)驗(yàn)需求。

  5. 在線監(jiān)測儀器：如粒度分析儀、pH 計(jì)、粘度計(jì)等，實(shí)時(shí)監(jiān)測拋光液的性能參數(shù)。

  6. 樣品采集和分析系統(tǒng)：方便隨時(shí)采集樣品進(jìn)行離線的深入分析。


工作原理：
研究人員根據(jù)設(shè)定的配方，通過精密計(jì)量系統(tǒng)將原材料加入小型反應(yīng)釜中。利用多模式攪拌系統(tǒng)和溫度、壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)創(chuàng)造適宜的反應(yīng)環(huán)境。在反應(yīng)過程中，在線監(jiān)測儀器實(shí)時(shí)反饋數(shù)據(jù)，研究人員根據(jù)這些數(shù)據(jù)調(diào)整實(shí)驗(yàn)參數(shù)。需要時(shí)，通過樣品采集和分析系統(tǒng)獲取更詳細(xì)的信息，以不斷優(yōu)化拋光液的配方和工藝。


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